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      6. ?n溝道m(xù)os管原理,nmos工作條件介紹
        • 發(fā)布時(shí)間:2025-07-04 18:54:56
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        n溝道m(xù)os管原理,nmos工作條件介紹
        一、N溝道MOS管符號(hào)及應(yīng)用場(chǎng)景
        N溝道MOS管(NMOS),用以下符號(hào)表示,
        ?n溝道m(xù)os管原理
        在大功率設(shè)備領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,涵蓋電機(jī)驅(qū)動(dòng)、開(kāi)關(guān)電源以及逆變器等,其核心優(yōu)勢(shì)在于基于電壓型驅(qū)動(dòng)方式,即以小電壓調(diào)控大電壓,操作便捷性顯著。
        二、MOS管工作原理剖析
        MOS管工作效能取決于MOS電容,該電容位于源極與漏極間氧化層下方的半導(dǎo)體表面,通過(guò)施加正負(fù)柵極電壓,可實(shí)現(xiàn)表面從p型到n型的反轉(zhuǎn)。
        MOS管關(guān)鍵原理在于調(diào)控源極與漏極間電壓電流,其運(yùn)作類(lèi)似開(kāi)關(guān),功能基于MOS電容,后者堪稱MOS管核心部件。
        ?n溝道m(xù)os管原理
        當(dāng)漏源電壓(VDS)接入,正電壓施加于漏極、負(fù)電壓作用于源極時(shí),漏極的pn結(jié)呈反向偏置,源極的pn結(jié)呈正向偏置,此時(shí)漏源間無(wú)電流流通。
        若在柵極端子施加正電壓(VGG),因靜電引力,p襯底中的少數(shù)載流子——電子,會(huì)在柵極觸點(diǎn)聚集,于兩個(gè)n+區(qū)域間形成導(dǎo)電橋。
        柵極觸點(diǎn)自由電子聚集量受施加正電壓強(qiáng)度影響,電壓越高,聚集電子越多,n溝道越寬,電導(dǎo)率提升,漏極電流(ID)隨之開(kāi)啟。
        無(wú)電壓施加于柵極時(shí),除少數(shù)載流子產(chǎn)生的微量電流外,基本無(wú)電流流動(dòng)。MOS管開(kāi)始導(dǎo)通的最低電壓即閾值電壓。
        以n溝道MOS管為例,選取輕摻雜p型襯底,擴(kuò)散兩個(gè)重?fù)诫sn型區(qū)作源極、漏極,兩n+區(qū)間經(jīng)擴(kuò)散形成n溝道,連通漏源。
        ?n溝道m(xù)os管原理
        在整體表面生長(zhǎng)一層薄二氧化硅(SiO2),開(kāi)設(shè)孔洞以構(gòu)建漏極、源極的歐姆接觸。覆蓋鋁導(dǎo)電層貫穿整個(gè)通道,在SiO2層上從源極延展至漏極形成柵極,SiO2襯底連接公共或接地端子。
        得益于結(jié)構(gòu)優(yōu)勢(shì),MOS管芯片面積遠(yuǎn)小于BJT,僅為雙極結(jié)型晶體管占用率的5%,極大節(jié)省空間。
        三、N溝道MOS管(耗盡型)工作原理解讀
        在柵極與溝道間無(wú)pn結(jié)的前提下,擴(kuò)散溝道n(兩n+區(qū)間)、絕緣介質(zhì)SiO2及柵極鋁金屬層構(gòu)成平行板電容器。
        欲使NMOS耗盡模式運(yùn)行,柵極需為負(fù)電位,漏極為正電位。
        ?n溝道m(xù)os管原理
        無(wú)電壓施加于柵源間時(shí),漏源電壓作用下有部分電流流通。對(duì)VGG施加負(fù)電壓,少數(shù)載流子空穴受吸引在SiO2層附近聚集,多數(shù)載流子電子被排斥。
        當(dāng)VGG負(fù)電位達(dá)一定值,漏極電流ID源源不斷從源極流向漏極。進(jìn)一步增大負(fù)電位,電子耗盡,ID減小,VGG越負(fù),ID越小。靠近漏極的通道較源極消耗更甚,致使電流減弱。
        四、N溝道MOS管(增強(qiáng)型)工作原理探究
        改變電壓VGG極性,MOS管可切換至增強(qiáng)模式。以柵源電壓VGG為正的MOS管為例,無(wú)電壓施加時(shí),漏源電壓作用下仍有電流流通。施加正電壓于VGG,少數(shù)載流子空穴遭排斥,多數(shù)載流子電子被吸引至SiO2層。
        ?n溝道m(xù)os管原理
        VGG正電位下,漏極電流ID源極至漏極暢通無(wú)阻。提升正電位,源極電子流受推動(dòng),ID增大,VGG越正,ID越大。因電子流增強(qiáng),電流得以放大,故稱增強(qiáng)模式MOS管。
        五、NMOS工作條件全析
        導(dǎo)通條件:NMOS導(dǎo)通需滿足柵極電壓(Vg)高于源極電壓(Vs),且壓差(Vgs)超越閾值電壓(Vgs(th))。即Vg-Vs>Vgs(th)時(shí),柵極下方形成反型層(n型溝道),源漏導(dǎo)通。
        導(dǎo)通特性:導(dǎo)通瞬間,NMOS猶如閉合開(kāi)關(guān),壓降趨近于0,但存在內(nèi)阻RDSon。值得注意的是,GS極間等效電容,唯有電容充滿電,MOS才能導(dǎo)通。多數(shù)MOS管DS極間內(nèi)置肖特基二極管,旨在提升性能。
        截止條件:讓NMOS截止(斷開(kāi)),只需撤去柵極電壓。但要關(guān)注GS間電容放電問(wèn)題,需并聯(lián)電阻實(shí)現(xiàn)放電。
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