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      6. MOS管開關(guān)時的米勒效應(yīng)是怎么形成的與怎么消除米勒效應(yīng)
        • 發(fā)布時間:2019-11-16 14:36:36
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        MOS管,MOS管開關(guān)時的米勒效應(yīng)是怎么形成的與怎么消除米勒效應(yīng)
        米勒效應(yīng)概述
        米勒效應(yīng)(Miller effect)是在電子學中,反相放大電路中,輸入與輸出之間的分布電容或寄生電容由于放大器的放大作用,其等效到輸入端的電容值會擴大1+K倍,其中K是該級放大電路電壓放大倍數(shù)。
        雖然一般密勒效應(yīng)指的是電容的放大,但是任何輸入與其它高放大節(jié)之間的阻抗也能夠通過密勒效應(yīng)改變放大器的輸入阻抗。
        米勒效應(yīng)的應(yīng)用
        米勒效應(yīng)在電子電路中,應(yīng)用很廣泛
        (1)密勒積分
        在集成運算放大器開環(huán)增益A很高的情況下,展寬積分線性范圍,提高運算精度,獲得了廣泛的運用。
        (2)用米勒電容補償,消除自激反應(yīng)
        由于米勒電容補償后的頻率響應(yīng),是一種在0dB帶寬不受損失的情況下, 使集成運算放大器沒有產(chǎn)生自激可能品質(zhì)優(yōu)良的“完全補償‘。同時,密勒效應(yīng)使小補償電容可以制作在基片上,從而實現(xiàn)了沒有外接補償元件的所謂“ 內(nèi)藏補償” 。
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        MOS管米勒效應(yīng)平臺形成的基本原理
        MOSFET的柵極驅(qū)動過程,可以簡單的理解為驅(qū)動源對MOSFET的輸入電容(主要是柵源極電容Cgs)的充放電過程;當Cgs達到門檻電壓之后, MOSFET就會進入開通狀態(tài);當MOSFET開通后,Vds開始下降,Id開始上升,此時MOSFET進入飽和區(qū);但由于米勒效應(yīng),Vgs會持續(xù)一段時間不再上升,此時Id已經(jīng)達到最大,而Vds還在繼續(xù)下降,直到米勒電容充滿電,Vgs又上升到驅(qū)動電壓的值,此時MOSFET進入電阻區(qū),此時Vds徹底降下來,開通結(jié)束。
        由于米勒電容阻止了Vgs的上升,從而也就阻止了Vds的下降,這樣就會使損耗的時間加長。(Vgs上升,則導(dǎo)通電阻下降,從而Vds下降)
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        米勒效應(yīng)在MOS驅(qū)動中臭名昭著,他是由MOS管的米勒電容引發(fā)的米勒效應(yīng),在MOS管開通過程中,GS電壓上升到某一電壓值后GS電壓有一段穩(wěn)定值,過后GS電壓又開始上升直至完全導(dǎo)通。為什么會有穩(wěn)定值這段呢?因為,在MOS開通前,D極電壓大于G極電壓,MOS寄生電容Cgd儲存的電量需要在其導(dǎo)通時注入G極與其中的電荷中和,因MOS完全導(dǎo)通后G極電壓大于D極電壓。米勒效應(yīng)會嚴重增加MOS的開通損耗。(MOS管不能很快得進入開關(guān)狀態(tài))
        所以就出現(xiàn)了所謂的圖騰驅(qū)動!!選擇MOS時,Cgd越小開通損耗就越小。米勒效應(yīng)不可能完全消失。MOSFET中的米勒平臺實際上就是MOSFET處于“放大區(qū)”的典型標志。用用示波器測量GS電壓,可以看到在電壓上升過程中有一個平臺或凹坑,這就是米勒平臺。
        MOS管米勒效應(yīng)形成的詳細過程
        米勒效應(yīng)指在MOS管開通過程會產(chǎn)生米勒平臺,原理如下。
        理論上驅(qū)動電路在G級和S級之間加足夠大的電容可以消除米勒效應(yīng)。但此時開關(guān)時間會拖的很長。一般推薦值加0.1Ciess的電容值是有好處的。
        下圖中粗黑線中那個平緩部分就是米勒平臺。
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        刪荷系數(shù)的這張圖 在第一個轉(zhuǎn)折點處:Vds開始導(dǎo)通。Vds的變化通過Cgd和驅(qū)動源的內(nèi)阻形成一個微分。因為Vds近似線性下降,線性的微分是個常數(shù),從而在Vgs處產(chǎn)生一個平臺。
        米勒平臺是由于mos 的g d 兩端的電容引起的,即mos  datasheet里的Crss 。
        這個過程是給Cgd充電,所以Vgs變化很小,當Cgd充到Vgs水平的時候,Vgs才開始繼續(xù)上升。
        Cgd在mos剛開通的時候,通過mos快速放電,然后被驅(qū)動電壓反向充電,分擔了驅(qū)動電流,使得Cgs上的電壓上升變緩,出現(xiàn)平臺。
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        t0~t1: Vgs from 0 to Vth.Mosfet沒通.電流由寄生二極管Df.
        t1~t2: Vgs from Vth to Va. Id
        t2~t3: Vds下降.引起電流繼續(xù)通過Cgd. Vdd越高越需要的時間越長.
        Ig 為驅(qū)動電流.
        開始降的比較快.當Vdg接近為零時,Cgd增加.直到Vdg變負,Cgd增加到最大.下降變慢.
        t3~t4: Mosfet 完全導(dǎo)通,運行在電阻區(qū).Vgs繼續(xù)上升到Vgg.
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        平臺后期,VGS繼續(xù)增大,IDS是變化很小,那是因為MOS飽和了。。。,但是,從樓主的圖中,這個平臺還是有一段長度的。
        這個平臺期間,可以認為是MOS 正處在放大期。
        前一個拐點前:MOS 截止期,此時Cgs充電,Vgs向Vth逼進。
        前一個拐點處:MOS 正式進入放大期
        后一個拐點處:MOS 正式退出放大期,開始進入飽和期。
        當斜率為dt 的電壓V施加到電容C上時(如驅(qū)動器的輸出電壓),將會增大電容內(nèi)的電流:
        I=C×dV/dt  (1)
        因此,向MOSFET施加電壓時,將產(chǎn)生輸入電流Igate = I1 + I2,如下圖所示。
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        在右側(cè)電壓節(jié)點上利用式(1),可得到:
        I
        1=Cgd×d(Vgs-Vds)/dt=Cgd×(dVgs/dt-dVds/dt)     (2)
        I2=Cgs×d(Vgs/dt)    (3)
        如果在MOSFET上施加?xùn)?源電壓Vgs,其漏-源電壓Vds 就會下降(即使是呈非線性下降)。因此,可以將連接這兩個電壓的負增益定義為:
        Av=- Vds/Vgs  (4)
        將式(4)代入式(2)中,可得:
        I1=Cgd×(1+Av)dVgs/dt   (5)
        在轉(zhuǎn)換(導(dǎo)通或關(guān)斷)過程中,柵-源極的總等效電容Ceq為:
        Igate=I1+I2=(Cgd×(1+Av)+Cgs)×dVgs/dt=Ceq×dVgs/dt   (6)
        式中(1+Av)這一項被稱作米勒效應(yīng),它描述了電子器件中輸出和輸入之間的電容反饋。當柵-漏電壓接近于零時,將會產(chǎn)生米勒效應(yīng)。
        Cds分流最厲害的階段是在放大區(qū)。為啥? 因為這個階段Vd變化最劇烈。平臺恰恰是在這個階段形成。你可認為:門電流Igate完全被Cds吸走,而沒有電流流向Cgs。
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        注意數(shù)據(jù)手冊中的表示方法
        Ciss=Cgs+Cgd
        Coss=Cds+Cgd
        Crss=Cgd
        如何消除MOS管米勒效應(yīng)
        設(shè)計電源時,工程師常常會關(guān)注與MOSFET導(dǎo)通損耗有關(guān)的效率下降問題。在出現(xiàn)較大RMS電流的情況下, 比如轉(zhuǎn)換器在非連續(xù)導(dǎo)電模式(DCM)下工作時,若選擇Rds(on)較小的MOSFET,芯片尺寸就會較大,從而輸入電容也較大。也就是說,導(dǎo)通損耗的減小將會造成較大的輸入電容和控制器較大的功耗。當開關(guān)頻率提高時,問題將變得更為棘手。
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        圖1 MOSFET導(dǎo)通和關(guān)斷時的典型柵電流
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        圖2 MOSFET中的寄生電容
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        圖3 典型MOSFET的柵電荷
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        圖4 基于專用控制器的簡單QR轉(zhuǎn)換器
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        圖5 ZVS技術(shù)消除米勒效應(yīng)
        MOSFET導(dǎo)通和關(guān)斷時的典型柵電流如圖1所示。在導(dǎo)通期間,流經(jīng)控制器Vcc引腳的峰值電流對Vcc充電;在關(guān)斷期間,存儲的電流流向芯片的接地端。如果在相應(yīng)的面積上積分,即進行篿gate(t)dt,則可得到驅(qū)動晶體管的柵電荷Qg 。將其乘以開關(guān)頻率Fsw,就可得到由控制器Vcc提供的平均電流。因此,控制器上的總開關(guān)功率(擊穿損耗不計)為:
        Pdrv = Fsw×Qg×Vcc
        如果使用開關(guān)速度為100kHz 的12V控制器驅(qū)動?xùn)烹姾蔀?00nC的MOSFET,驅(qū)動器的功耗即為100nC×100kHz×12V=10mA×12V=120mW。
        MOSFET的物理結(jié)構(gòu)中有多種寄生單元,其中電容的作用十分關(guān)鍵,如圖2所示。產(chǎn)品數(shù)據(jù)表中的三個參數(shù)采取如下定義:當源-漏極短路時,令Ciss = Cgs + Cgd;當柵-源極短路時,令Coss = Cds +? Cgd;Crss = Cgd。
        驅(qū)動器實際為柵-源極連接。當斜率為dt 的電壓V施加到電容C上時(如驅(qū)動器的輸出電壓),將會增大電容內(nèi)的電流:
        I=C×dV/dt
        (2)
        因此,向MOSFET施加電壓時,將產(chǎn)生輸入電流Igate = I1 + I2,如圖2所示。在右側(cè)電壓節(jié)點上利用式(2),可得到:
        I1=Cgd×d(Vgs-Vds)/dt=Cgd×(dVgs/dt-dVds/dt)
        (3)I2=Cgs×d(Vgs/dt)
        MOS管,MOS管米勒效應(yīng)
        (7)式中(1-Av)這一項被稱作米勒效應(yīng),它描述了電子器件中輸出和輸入之間的電容反饋。當柵-漏電壓接近于零時,將會產(chǎn)生米勒效應(yīng)。典型功率MOSFET的柵電荷如圖3所示,該圖通過用恒定電流對柵極充電并對柵-源電壓進行觀察而得。根據(jù)式(6),當Ciss突然增大時,電流持續(xù)流過。但由于電容急劇增加,而相應(yīng)的電壓升高dVgs卻嚴重受限,因此電壓斜率幾乎為零,如圖3中的平坦區(qū)域所示。
        圖3也顯示出降低在轉(zhuǎn)換期間Vds(t)開始下降時的點的位置,有助于減少平坦區(qū)域效應(yīng)。Vds=100V時的平坦區(qū)域?qū)挾纫萔ds=400V時窄,曲線下方的面積也隨之減小。因此,如果能在Vds等于零時將MOSFET導(dǎo)通,即利用ZVS技術(shù),就不會產(chǎn)生米勒效應(yīng)。
        在準諧振模式(QR)中采用反激轉(zhuǎn)換器是消除米勒效應(yīng)較經(jīng)濟的方法, 它無需在下一個時鐘周期內(nèi)使開關(guān)處于導(dǎo)通狀態(tài),只要等漏極上的自然振蕩將電壓逐漸降至接近于零。與此同時,通過專用引腳可以檢測到控制器再次啟動了晶體管。通過在開關(guān)打開處反射的足夠的反激電壓(N×[Vout+Vf]),即可實現(xiàn)ZVS操作,這通常需要800V(通用范圍)的高壓MOSFET。基于安森美的NCP1207的QR轉(zhuǎn)換器如圖4所示,它可以直接使用高壓電源供電。該轉(zhuǎn)換器在ZVS下工作時的柵-源電壓和漏極波形如圖5所示。
        總之,如果需要Qg較大的MOSFET,最好使反激轉(zhuǎn)換器在ZVS下工作,這樣可以減少平均驅(qū)動電流帶來的不利影響。這一技術(shù)也廣泛應(yīng)用于諧振轉(zhuǎn)換器中。
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